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三星已确保3nm芯片工艺良品率稳定


时间:2021-10-09  来源:  作者:  点击次数:


据韩国媒体报道,三星已经确保了3纳米工艺的稳定产量,并计划在明年6月开始大规模生产。

据悉,采用该工艺制造的芯片性能将比5nm提高50%,能耗降低50%。三星率先在3nm工艺研发中引入全新GAA(Gate-全能)技术。

值得一提的是,三星的3纳米技术将领先于其竞争对手TSMC。此外,三星还宣布,更先进的2nm工艺将于2025年量产。2nm工艺技术将进一步提升芯片性能和能效,持续推动电子产品小型化。


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