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终结FinFET晶体管!台积电正式公布2nm:功耗降低30%


时间:2022-06-17  来源:  作者:  点击次数:


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6月17日上午消息,TSMC在今天举行的2022技术论坛上首次推出了下一代先进工艺N2,也就是2nm。

在技术指标方面,TSMC披露,N2与N3相比,同等功耗下速度块10 ~ 15%;相同速度下,功耗降低25~30%,开启高效率新时代。

就纵向对比来看,2nm到3nm的提升似乎不如3nm到5nm,包括但不限于性能、功耗、密度等所有核心参数。

在微结构上,N2采用纳米片晶体管,而不是FinFET(鳍式场效应晶体管)。人们普遍认为纳米片晶体管是TSMC的GAAFET(环绕栅晶体管)。

TSMC还表示,N2不仅拥有移动处理器的标准流程,还拥有高性能计算和小芯片的集成方案。

从时间节奏来看,N2将于2025年量产。

此外,根据TSMC最新的技术路线图,第一代3nm(N3)定于下半年量产,3nm的寿命会更长,随后是N3E、N3P和N3X。


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